負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器采用化學(xué)法現(xiàn)場(chǎng)制備二氧化氯并同時(shí)進(jìn)行投加的設(shè)備,外形結(jié)構(gòu)為落地柜式。投加水射 器在柜式發(fā)生器內(nèi)。T70G4000生成CLO2(二氧化氯)的反應(yīng)物:NaCLO2(亞氯酸鈉)+ HCL(鹽酸)。T70GC4000生成CLO2的反應(yīng)物:NaCLO2+HCL+NaCLO(次氯酸鈉)。 T70GT4000生成CLO2的反應(yīng)物:NaCLO2+CL2(氯氣)。所產(chǎn)生CLO2的生成物含量在 95%以上。該系統(tǒng)為負(fù)壓投加系統(tǒng)(不同于采用計(jì)量泵的正壓投加系統(tǒng))。因而**性及可靠 性更高。 壓力水流經(jīng)水射器生成負(fù)壓,吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合,投入工藝過程。流入 發(fā)生器的反應(yīng)物,由浮子流量計(jì)測(cè)量流量。如果是手動(dòng)操作的發(fā)生器,反應(yīng)物投加量和二氧化氯 發(fā)生量由流量計(jì)本身帶的手動(dòng)閥控制。反應(yīng)物和用以優(yōu)化反應(yīng)的水被抽取進(jìn)入反應(yīng)塔,從塔中流 出的二氧化氯溶液流過一個(gè)觀察鏡,可以通過顏色來估計(jì)產(chǎn)出量。如果系列為自動(dòng)控制,流過流 量計(jì)的反應(yīng)物由一個(gè)三個(gè)閥座的CHLOROMATIC閥控制,這個(gè)閥的閥芯的形狀可以反映正確的 劑量比。閥的執(zhí)行器可接受外部控制裝置的4~20mA控制信號(hào),自動(dòng)調(diào)節(jié)二氧化氯的發(fā)生量。 負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 特 點(diǎn) - 高產(chǎn)出率:CLO2產(chǎn)生率>95%
- 運(yùn)行費(fèi)用低:使用商品濃度原料,無(wú)需稀釋
- 低維護(hù)費(fèi)用:可動(dòng)部件少,負(fù)壓運(yùn)行,部件過壓損壞率低
- 準(zhǔn)確:原料進(jìn)入為流量計(jì)直接測(cè)量,精度高
- 運(yùn)行**:負(fù)壓操作,無(wú)產(chǎn)生壓力的泵,無(wú)外泄之慮直接投加,不需存儲(chǔ)所產(chǎn)生的CLO2
- 高效自控:可實(shí)現(xiàn)多種自動(dòng)控制方式
負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 技術(shù)參數(shù) - 投加量:T70G4000 80g/h~10kg/h T70GT4000 15kg/h~30kg/h
T70GC4000 350g/h~9kg/h - 低發(fā)生量:T70G4000 80,150g/h NaCLO2 7.5%(80g/L,у=1.07)
HCL 8.5%(88g/L,у=1.04) - 消耗:CLO2(1g)←→NaCLO2(23.2mL)+HCL(23.2mL)
- 高發(fā)生量:300g~10kg/h~30kg/h NaCLO2 25%(306g/L,у=1.22)
HCL 32%(371g/L,у=1.16) NaCLO 14%(у=1.20) - 消耗:CLO2(1g)←→NaCLO2(6mL)+HCL(4.3mL)
CLO2(1g)←→NaCLO2(4.25mL)+HCL2(0.55gg) - 稀釋水壓力:≤150kpa穩(wěn)定
- 控制輸入:4~20mA
- 化學(xué)品容器標(biāo)高:容器底部min1.5m高度
- 水射器工作水壓:max.2.0MPa
- 發(fā)生器環(huán)境溫度:5~30℃,*佳20℃
- 自動(dòng)控制輸出信號(hào):1.控制閥位4~20mA(1)
2.自動(dòng)手動(dòng)切換SPDT觸點(diǎn)(1) 3.低真空觸點(diǎn)SPDT觸點(diǎn)(1)(選擇項(xiàng)) 4.反應(yīng)物缺乏報(bào)警SPDT觸點(diǎn)(2) - 調(diào)節(jié)范圍:建議50~100%投加量
- 控制方式:詳見下圖
- 外形尺寸:610(L)×1524(H)×650(W)mm
注:反應(yīng)物中不能含有氫氟酸。從反應(yīng)物容器至發(fā)生器管路上應(yīng)安裝過濾器。 二氧化氯發(fā)生器投加系統(tǒng)控制方式 對(duì)控制系統(tǒng)配置選擇殘余量及復(fù)合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器,系統(tǒng)配置設(shè)計(jì) 請(qǐng)咨詢上海費(fèi)波自控技術(shù)有限公司。 A.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 手動(dòng)控制 流量比例控制 C.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 二氧化氯殘余量負(fù)反饋控制 二氧化氯殘余量和水流量復(fù)合環(huán)控制 |